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2025 /05/ 02

Kaiyun体育官方网站-日本首相岸田文雄寻求提高尖端半导体产量

来源：The Asahi Shimbun日本首相岸田文雄（左三）在参观 Rapidus公司新工厂的规划用地后与Rapidus公司董事长东哲郎（左二）合影。照片拍摄于7月24日，地点为北海道千岁市。日本首相岸田文雄加倍支持国内下一代芯片的生产，并承诺提供政府资金。岸田文雄于近日参观了Rapidus公司
2025 /05/ 02

Kaiyun体育官方网站-离子束溅射镀膜机入选“广东省首台（套）重大技术装备推广应用指导目录”

来源：博顿光电《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》由工信部牵头制订，根据国家和重点产业的重大技术装备发展情况每2-3年动态调整一次，体现了政府对重大技术装备发展的引导。根据要求，入选指导目录的技术装备产品需具备突破性技术，并已在市场上实现销售或处于研制阶段，同时拥有已授权发明专利。这一举措旨在
2025 /05/ 01

Kaiyun体育官方网站-SkyWater投资MEBL

来源：Silicon SemiconductorSkyWater位于明尼苏达的工厂旨在拥有世界上最先进的200毫米光刻技术。SkyWater Technology已从 Multibeam Corp. 获得首款用于批量生产的多柱电子束光刻 (MEBL) 系统。Multibeam (MB) 平台是半导体
2025 /05/ 01

Kaiyun体育官方网站-第三代半导体13项标准获得新进展！

近日，第三代半导体产业技术创新战略联盟（CASA）官方微信消息，其标准化委员会（CASAS）公布了13项标准新进展，包括2项GaN HEMT动态导通电阻测试标准形成委员会草案、2项SiC单晶生长用等静压石墨标准征求意见、9项SiC MOSFET技术标准已完成征求意见稿的编制。012项GaN HEMT
2025 /05/ 01

Kaiyun体育官方网站-对比分子束外延（MBE）与金属有机化学气相外延（MOCVD）技术

来源：III-V EPi分子束外延 (MBE) 和金属有机化学气相外延 (MOCVD) 是用于针对III-V族半导体合成的不同类型的外延生长技术。这两种技术均将原子逐层沉积到衬底或半导体晶圆上。它们生产具有精确成分和厚度的薄晶体层和半导体异质结构，以提供所需的特定光电特性和设备性能。在本文中，III